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論文

A New system for in-situ observation of dynamic process of structural and chemical changes during dual ion irradiation in a 400kV electron microscope

古野 茂実; 北條 喜一; 大津 仁; 出井 数彦*; 佐々木 貞吉; 塚本 哲生*; 畑 喬雄*

Electron Microscopy 1990,Vol. 4, p.538 - 539, 1990/00

核融合炉材料の照射損傷をシミュレートする目的で、二重イオンビーム照射中の材料の損傷を連続的に観察、解析する装置を開発した。本装置は最大40keVのHからArまでのガスイオンを照射できる二組のイオン装置を400kVの電顕に付設したものである。照射中の構造変化はTVカメラによってVTRに連続的に記録され、同時分析はX線エネルギー分光器および電子エネルギー損失分光器によって行われる。この会議では、装置の仕様およびAlおよびSiCへの照射応用例を報告する。

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